利用高效能熱製程改善低溫複晶矽薄膜電晶體之電性表現

標題:	利用高效能熱製程改善低溫複晶矽薄膜電晶體之電性表現 The Performance of Poly-Si TFT was Improved by High Performance Thermal Process
作者:	馮明憲交通大學材料科學與工程研究所
公開日期:	2004
官方說明文件#:	NSC93-2215-E009-038
URI:	http://hdl.handle.net/11536/91428 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=1026710&docId=195186
Appears in Collections:	Research Plans