12吋矽晶圓半導體CVD製程設備及BST介電薄膜成長研究---子計畫II：BST介電薄膜在12吋矽晶圓上快速熱回火製程中熱物理性質及熱應力之研究(I)

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	曲新生	en_US
dc.contributor.author	CHU, HSIN-SEN	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:32:28Z	-
dc.date.available	2014-12-13T10:32:28Z	-
dc.date.issued	2000	en_US
dc.identifier.govdoc	NSC89-2212-E009-039	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/91574	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=501218&docId=90364	en_US
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	BST介電薄膜	zh_TW
dc.subject	熱物理性質	zh_TW
dc.subject	快速熱回火製程	zh_TW
dc.subject	熱應力	zh_TW
dc.subject	BST dielectric thin film	en_US
dc.subject	Thermal physical property	en_US
dc.subject	Rapid thermal processing (RTP)	en_US
dc.subject	Thermal stress	en_US
dc.title	12吋矽晶圓半導體CVD製程設備及BST介電薄膜成長研究---子計畫II：BST介電薄膜在12吋矽晶圓上快速熱回火製程中熱物理性質及熱應力之研究(I)	zh_TW
dc.title	Study on the Thermal Properties and Stresses of a 12-Inch Silicon Wafer with High-Dielectric BST Thin Films in Rapid Thermal Processing/Annealing (I)	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	交通大學機械工程系	zh_TW
顯示於類別：	研究計畫

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