| 標題: | 實用銅膜之化學氣相沉積技術研究(II) Study and Development of Practical Copper Film Deposition by CVD Method (II) |
| 作者: | 陳茂傑 國立交通大學電子工程學系 |
| 公開日期: | 2003 |
| 官方說明文件#: | NSC92-2215-E009-018 |
| URI: | http://hdl.handle.net/11536/91845 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=873424&docId=167322 |
| 顯示於類別： | 研究計畫 |
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