| 標題: | 實用銅膜之化學氣相沉積技術研究(I) Study and Development of Practical Copper Film Deposition by CVD method (I) |
| 作者: | 陳茂傑 交通大學電子工程系 |
| 公開日期: | 2002 |
| 官方說明文件#: | NSC91-2215-E009-043 |
| URI: | http://hdl.handle.net/11536/92657 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=784401&docId=150769 |
| 顯示於類別： | 研究計畫 |
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