標題: 12吋矽晶圓半導體CVD製程設備及BST介電薄膜成長研究---子計畫III:利用CVD法成長BST薄膜與特性分析(III)
Growth and Characterizations of CVD BST Thin Films (IⅡ)
作者: 曾俊元
TSEUNG-YUENTSENG
交通大學電子工程系
公開日期: 2002
官方說明文件#: NSC91-2212-E009-041
URI: http://hdl.handle.net/11536/93057
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=783009&docId=150399
顯示於類別:研究計畫