完整後設資料紀錄
DC 欄位語言
dc.contributor.author黃調元en_US
dc.contributor.authorTIAO-YUANHUANGen_US
dc.date.accessioned2014-12-13T10:34:54Z-
dc.date.available2014-12-13T10:34:54Z-
dc.date.issued2002en_US
dc.identifier.govdocNSC91-2215-E009-042zh_TW
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11536/93069-
dc.identifier.urihttps://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=784397&docId=150768en_US
dc.description.sponsorship行政院國家科學委員會zh_TW
dc.language.isozh_TWen_US
dc.title蕭特基能障SOI金氧半電晶體元件研製與分析(II)zh_TW
dc.titleFabrication and Characterization of SOI Schottky Barrier MOSFET (II)en_US
dc.typePlanen_US
dc.contributor.department交通大學電子工程系zh_TW
顯示於類別:研究計畫


文件中的檔案:

  1. 912215E009042.pdf

若為 zip 檔案,請下載檔案解壓縮後,用瀏覽器開啟資料夾中的 index.html 瀏覽全文。