| 標題: | 12吋矽晶圓半導體CVD製程設備及BST介電薄膜成長研究---子計畫Ⅰ：12吋矽晶圓CVD製程設備的加熱及成長BST薄膜之進氣系統設計與反應爐系統整合(II) Design of Heating Assembly and Gas Feeding Unit for BST Thin Film Growth and Integration of CVD Reactor System for a 12-inch Single Silicon Wafer (II) |
| 作者: | 林清發 LIN TSING-FA 國立交通大學機械工程研究所 |
| 關鍵字: | 矽晶圓;化學氣相沉積法;薄膜成長;進氣系統;Silicon wafer;Chemical vapor deposition (CVD);Thin film growth;Gas feeding system |
| 公開日期: | 2001 |
| 官方說明文件#: | NSC90-2212-E009-077 |
| URI: | http://hdl.handle.net/11536/93517 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=662734&docId=125585 |
| 顯示於類別： | 研究計畫 |
