| 標題: | 低溫成長絕緣矽氧化膜設備之研製 (III) Development of Equipment for Room-Temperature Deposited Silicon Oxide (III) |
| 作者: | 葉清發 國立交通大學電子工程學系 |
| 公開日期: | 2000 |
| 官方說明文件#: | NSC89-2218-E009-081 |
| URI: | http://hdl.handle.net/11536/93607 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=597394&docId=112576 |
| 顯示於類別： | 研究計畫 |
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