CMOS發光顯像技術與閘極介電層材料研究---中加合作案(II)

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	汪大暉	en_US
dc.contributor.author	WANG TAHUI	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:36:03Z	-
dc.date.available	2014-12-13T10:36:03Z	-
dc.date.issued	2000	en_US
dc.identifier.govdoc	NSC89-2218-E009-067	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/93729	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=597332&docId=112562	en_US
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.title	CMOS發光顯像技術與閘極介電層材料研究---中加合作案(II)	zh_TW
dc.title	CMOS Luminescence Imaging Technique and Advanced Gate Dielectrics Research(II)	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	國立交通大學電子工程學系	zh_TW
顯示於類別：	研究計畫

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