超高真空化學氣相沈積低溫新穎複晶矽薄膜電晶體的製作與可靠度之研究---子計畫I：化學氣相沈積系統成長低溫複晶矽薄膜電晶體及其在投影式液晶顯示器的應用

Date

Authors

TING-CHANGCHANG

Keywords

高真空 , 化學氣相沈積法 , 多晶矽 , 薄膜電晶體 , High Vacuum , Chemical vapor deposition (CVD) , Polycrystalline silicon , Thin film transistor (TFT)

URI

https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=428670&docId=76707
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/94093

Collections

研究計畫;;Research Plans