| 標題: | 超高真空化學氣相沈積低溫新穎複晶矽薄膜電晶體的製作與可靠度之研究---子計畫I：化學氣相沈積系統成長低溫複晶矽薄膜電晶體及其在投影式液晶顯示器的應用 Fabrication of UHVCVD Low Temperature Poly-Si TFTs and Its Applications to Projection Liquid Crystal display |
| 作者: | 張鼎張 TING-CHANGCHANG 國立交通大學毫微米實驗室 |
| 關鍵字: | 高真空;化學氣相沈積法;多晶矽;薄膜電晶體;High Vacuum;Chemical vapor deposition (CVD);Polycrystalline silicon;Thin film transistor (TFT) |
| 公開日期: | 1999 |
| 官方說明文件#: | NSC88-2215-E317-009 |
| URI: | http://hdl.handle.net/11536/94093 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=428670&docId=76707 |
| Appears in Collections: | Research Plans |
