積體電路化學品與材料之開發---子計畫I：超微細Al/sub 2/O/sub 3/及Y-PSZ粉末之合成及其化學機械研磨劑之製備(II)

標題:	積體電路化學品與材料之開發---子計畫I：超微細Al/sub 2/O/sub 3/及Y-PSZ粉末之合成及其化學機械研磨劑之製備(II) The Syntheses of Ultrafine Al/sub 2/O/sub 3/ and Y-PSZ Powders and the Preparation of Related Chemical Mechanical Polishing Slurries (II)
作者:	涂肇嘉交通大學材料科學與工程研究所
關鍵字:	超微粒;氧化鋁;化學機械拋光;Ultrafine particle;Alumina;Chemical mechanical polishing
公開日期:	1999
官方說明文件#:	NSC88-CPC-E009-009
URI:	http://hdl.handle.net/11536/94190 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=461621&docId=84633
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