標題: 嵌附式減光型相移圖罩之模擬與製備
Simulation and Fabrication of Embedded Attenuated Phase-Shifting Mask
作者: 龍文安
Loong Wen-an
交通大學應用化學系
關鍵字: 相移光罩;活性離子蝕刻;電子束;微影術;步進機;Phase shift mask (PSM);Reactive ion etching (RIE);E-beam;Lithography;Stepper
公開日期: 1999
官方說明文件#: NSC88-2215-E009-025
URI: http://hdl.handle.net/11536/94241
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=418240&docId=74198
顯示於類別:研究計畫