標題: 矽晶圓高效減廢超洗淨技術研究
Ultra-clean for Silicon Wafers with Less Consumption of Water and Chemicals
作者: 潘扶民
PAN FU-MING
國立交通大學毫微米實驗室
關鍵字: 矽晶圓;超洗淨;表面分析;金氧半導體;金屬汙染物;氮化氧化層;Silicon wafer;Ultra-cleaning;Surface analysis;MOS;Metal contaminant;Nitrided oxide
公開日期: 1999
官方說明文件#: NSC88-2215-E317-002
URI: http://hdl.handle.net/11536/94279
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=418270&docId=74205
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