標題: 8吋晶圓半導體LPCVD製程設備之研發---子計劃IV:利用LPCVD法成長Ta/sub 2/O/sub 5/薄膜與特性分析(III)
Growth and Characterization of LPCVD Ta/sub 2/O/sub 5/ Thin Films (III)
作者: 曾俊元
TSEUNG-YUENTSENG
交通大學電子工程系
關鍵字: 氧化鉭;低壓化學氣相沈積法;薄膜生長;晶圓;Tantalum oxide;Low pressure chemical vaporization deposition (LPCVD);Thin film growth;Wafer
公開日期: 1999
官方說明文件#: NSC88-2218-E009-004
URI: http://hdl.handle.net/11536/94323
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=418203&docId=74189
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