鐵電記憶體材料與製程技術開發---子計畫IV：鐵電薄膜及其電極材料之電漿蝕刻製程開發(II)

Date

Authors

Keywords

鐵電薄膜 , 蝕刻速率 , 蝕刻輪廓 , 電漿蝕刻 , 鉑電極 , Ferroelectric film , Etching rate , Etching profile , Plasma etching , Pt electrode

URI

https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=429112&docId=76809
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/94389

Collections

研究計畫;;Research Plans