完整後設資料紀錄
DC 欄位 | 值 | 語言 |
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dc.contributor.author | 陳茂傑 | en_US |
dc.date.accessioned | 2014-12-13T10:37:48Z | - |
dc.date.available | 2014-12-13T10:37:48Z | - |
dc.date.issued | 1998 | en_US |
dc.identifier.govdoc | NSC87-2622-E009-004 | zh_TW |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/94864 | - |
dc.identifier.uri | https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=402094&docId=70740 | en_US |
dc.description.sponsorship | 行政院國家科學委員會 | zh_TW |
dc.language.iso | zh_TW | en_US |
dc.subject | 化學氣相沈積法 | zh_TW |
dc.subject | 銅 | zh_TW |
dc.subject | Chemical vapor deposition | en_US |
dc.subject | Copper | en_US |
dc.title | 銅化學氣相沉積系統之研製(II) | zh_TW |
dc.type | Plan | en_US |
dc.contributor.department | 交通大學電子工程研究所 | zh_TW |
顯示於類別: | 研究計畫 |