單晶CVD薄膜和熔化成長法製程中的不穩定熱流與使其穩定之研究---總計畫(III)

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	林清發	en_US
dc.contributor.author	LIN TSING-FA	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:38:05Z	-
dc.date.available	2014-12-13T10:38:05Z	-
dc.date.issued	1998	en_US
dc.identifier.govdoc	NSC87-2212-E009-028	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/95032	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=353158&docId=63026	en_US
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	浮力	zh_TW
dc.subject	不穩定流	zh_TW
dc.subject	半導體	zh_TW
dc.subject	化學氣相沉積法	zh_TW
dc.subject	薄膜單晶	zh_TW
dc.subject	Buoyancy	en_US
dc.subject	Unstable flow	en_US
dc.subject	Semiconductor	en_US
dc.subject	Chemical vapor deposition (CVD)	en_US
dc.subject	Thin film single crystal	en_US
dc.title	單晶CVD薄膜和熔化成長法製程中的不穩定熱流與使其穩定之研究---總計畫(III)	zh_TW
dc.title	A Study of Generic Unstable Flow and Heat Transfer and Its Stabilization in CVD Thin Film and Melt Growth of Single Crystals (III)	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	交通大學機械工程系	zh_TW
顯示於類別：	研究計畫

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