電子束微影近距效應校正參數求測

標題:	電子束微影近距效應校正參數求測 Determination of Proximity Correction Parameters for Electron Beam Lithography
作者:	龍文安 Loong Wen-an 交通大學應用化學系
關鍵字:	電子束微影成像;近距效應;校正;參數;Electron beam lithography;Proximity effect;Correction;Parameter
公開日期:	1998
官方說明文件#:	NSC87-2215-E009-056
URI:	http://hdl.handle.net/11536/95090 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=409020&docId=72412
顯示於類別：	研究計畫