完整後設資料紀錄
DC 欄位 | 值 | 語言 |
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dc.contributor.author | 張國明 | en_US |
dc.contributor.author | CHANG KOW-MING | en_US |
dc.date.accessioned | 2014-12-13T10:39:49Z | - |
dc.date.available | 2014-12-13T10:39:49Z | - |
dc.date.issued | 1995 | en_US |
dc.identifier.govdoc | NSC84-2215-E009-073 | zh_TW |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/96837 | - |
dc.identifier.uri | https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=160977&docId=26776 | en_US |
dc.description.sponsorship | 行政院國家科學委員會 | zh_TW |
dc.language.iso | zh_TW | en_US |
dc.title | 金屬及金屬矽化物技術 | zh_TW |
dc.title | Metal and Silicide Metallization Technologies | en_US |
dc.type | Plan | en_US |
dc.contributor.department | 國立交通大學電子工程研究所 | zh_TW |
顯示於類別: | 研究計畫 |