電極/鐵電薄膜/結緣層/矽晶體結構之薄膜製程及特性劣化研究

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	陳三元	en_US
dc.contributor.author	CHEN SAN-YUAN	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:39:51Z	-
dc.date.available	2014-12-13T10:39:51Z	-
dc.date.issued	2001	en_US
dc.identifier.govdoc	NSC90-2215-E009-061	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/96874	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=665675&docId=126367	en_US
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	電極	zh_TW
dc.subject	鐵電薄膜	zh_TW
dc.subject	絕緣層	zh_TW
dc.subject	矽晶體	zh_TW
dc.subject	特性劣化	zh_TW
dc.subject	Electrode	en_US
dc.subject	Ferroelectric thin film	en_US
dc.subject	Insulating layer	en_US
dc.subject	Silicon crystal	en_US
dc.subject	Characterization degradation	en_US
dc.title	電極/鐵電薄膜/結緣層/矽晶體結構之薄膜製程及特性劣化研究	zh_TW
dc.title	Characteristic Degradation and Processing Development of Ferroelectric-Film for Metal-Ferroelectric-Insulator-Semiconductor	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	國立交通大學材料科學與工程學系	zh_TW
顯示於類別：	研究計畫

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