脈衝雷射蒸鍍和造形高溫超導微波元件之研究 (I)

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	吳光雄	en_US
dc.contributor.author	WU KAUNG-HSIUNG	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:40:06Z	-
dc.date.available	2014-12-13T10:40:06Z	-
dc.date.issued	1994	en_US
dc.identifier.govdoc	NSC83-0212-M009-022	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/97152	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=71547&docId=10677	en_US
dc.description.abstract	本研究計畫係延續前兩年所建立之脈衝雷射製備釔系高溫超導薄膜之技術經驗和具體研究成果,深入探討薄膜成長之起始狀態,以進一步達到可控制之超薄超導薄膜成長,並改進薄膜超導特性和其表面狀態,以便達到製作高溫超導微波電子元件所須之薄膜品質要求.本計畫亦將建立大面積□雙面蒸鍍技術□以符合應用之須求.除了單層薄膜蒸鍍外,我們亦將研製超導/絕緣/超導和超導/導體/超導之三疊層結構,以提供適合作精密被動和主動微波元件所須之薄膜.本研究計畫亦將建立雷射造形系統, 研究雷射造形高溫超導薄膜之技術,並嘗試利用此方法製備高可靠度之超導微波元件且量測其物理特性.	zh_TW
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	脈衝雷射蒸鍍	zh_TW
dc.subject	超導薄膜	zh_TW
dc.subject	雙面蒸鍍	zh_TW
dc.subject	三層膜蒸鍍	zh_TW
dc.subject	雷射造形	zh_TW
dc.subject	超導微波電子元件	zh_TW
dc.subject	Pulsed laser deposition	en_US
dc.subject	Superconducting thin films	en_US
dc.subject	Double size deposition	en_US
dc.subject	Trilayer deposition	en_US
dc.subject	Laser patterning	en_US
dc.subject	Mircowave electronic devices	en_US
dc.title	脈衝雷射蒸鍍和造形高溫超導微波元件之研究 (I)	zh_TW
dc.title	Study the Pulsed Laser Deposition and Patterning of High Tc Superconducting Thin Films for Mircowave Device Application(I)	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	國立交通大學電子物理研究所	zh_TW
顯示於類別：	研究計畫