| 標題: | 學研合作計畫－極紫外光微影技術II (EUVL II)-從光源、檢測分析技術到奈米元件可靠度研究( II ) Investigations on Extreme Ultraviolet Lithography II (Euvl Ii)- from Light Source, Metrology, to Reliability of Nano Devices |
| 作者: | 黃遠東 HUANG YANG-TUNG 國立交通大學電子工程學系及電子研究所 |
| 公開日期: | 2012 |
| 官方說明文件#: | NSC101-2120-M009-007 |
| URI: | http://hdl.handle.net/11536/98569 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=2637732&docId=396945 |
| Appears in Collections: | Research Plans |
