瀏覽 的方式: 作者 羅正忠

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2002低介電常數材料與銅之可靠性分析與製程整合之研究彭仁杰; Jen-Chien Peng; 羅正忠; 張鼎張; Jen-Chung Lou; Ting-Chang Chang; 電子研究所
2007低功率管線式類比數位轉換器的設計與分析張仲儀; Johnny Chang; 羅正忠; Jen-Chung Lou; 電子研究所
16-十二月-2005低溫多晶矽薄膜電晶體主動層之雷射再結晶方法葉清發; 陳添富; 羅正忠
1-十二月-2004低溫多晶矽薄膜電晶體主動層之雷射再結晶方法葉清發; 陳添富; 羅正忠
11-四月-2005低溫多晶矽薄膜電晶體主動層之雷射再結晶方法葉清發; 陳添富; 羅正忠
21-六月-2004低溫多晶矽薄膜電晶體主動層之雷射再結晶方法葉清發; 陳添富; 羅正忠
2006使用3D 有限時域差分法分析相位移光罩接觸孔王昱鈞; Yu-Jun Wang; 羅正忠; Jen-Chung Lou; 電子研究所
2006使用ㄧ次曝光和二元光罩來產生擁有良好聚焦 深度的細線之模擬與研究曹人傑; Jen-Chieh Tsao; 羅正忠; 邱碧秀; Jen-Chung Lou; Bi-shiou Chiou; 電子研究所
2003元件圖案相依的金屬誘化側向結晶之複晶矽薄膜電晶體的製作與特性研究吳元均; Yuan-Chun Wu; 羅正忠; Jen-Chung Lou; 電子研究所
2006利用氟摻雜前處理技術應用於高介電常數閘極介電層薄膜電晶體之研究張宏仁; Hong-Ren Chang; 羅正忠; 邱碧秀; Jen-Chung Lou; Bi-Shiou Chiou; 電子研究所
2007前瞻非揮發性奈米晶體記憶體元件之製作與特性研究楊富明; 羅正忠; 張鼎張; 電子研究所
2004創新的腐蝕抑制劑於化學機械研磨之清洗對銅導線電性之研究吳柏慶; 羅正忠; 蔡明蒔; 電子研究所
2004化學機械研磨與蝕刻製程導致微影疊對誤差變異的影響研究與改善陳峰義; Feng-Yi Chen; 羅正忠; Dr. Jen-Chung Lou; 電機學院電子與光電學程
1999化學氣相沈積氧化鉭在Noble金屬電極之動態隨機存取記憶體電容器之研究羅正忠; 交通大學電子工程系
1997化學氣相沈積氧化鉭在鎢基板上之動態隨機記憶體電容器之研究羅正忠; 交通大學電子工程系
2001含氧摻雜SiC介電阻障層與Cu製程整合之研究李蓓欣; Pei Hsin Lee; 羅正忠; 張鼎張; Jen-Chung Lou; Ting-Chang Chang; 電子研究所
2002含氧摻雜SiC介電阻障層製程整合之研究楊富明; Fu-Ming Yang; 羅正忠; 張鼎張; Jen-Chung Lou; Ting-Chang Chang; 電子研究所
2008含氮氧化層應用於二氧化鉿儲存層快閃記憶體資料儲存時間之改善鄭元愷; 羅正忠; Jen-Chung Lou; 電子研究所
2008含氮穿隧氧化層再氧化行為於氮化矽快閃式記憶體之特性與研究洪晨修; Chen-Hsiu Hung; 羅正忠; Jen-Chung Lou; 電子研究所
2007含鎳/鎳鍺奈米點之氧化鍺非揮發性記憶體張俐婷; 羅正忠; 電子研究所