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公開日期標題作者
1991Characteristics of polysilicon contacted P﹢-N shallowjunction formed with stacked amorphous silicon films蔡德安; Cai, De-An; 李崇仁; 雷添福; Li, Chong-Ren; Lei, Tian-Fu; 電子研究所
1994CMP平坦化製程對元件特性之效應胡鈞屏; Jyng-Ping Hwu; 雷添福; Tan-Fu Lei; 電子研究所
1995FABRICTAION OF LOW TEMPERATURE（≦600℃）THIN-FILM TRANSISTORS WITH POLYSILICON FILMS GROWN BY LPCVD FROM GAS張正佶; Zhang, Zheng-Ji; 雷添福; Lei, Tian-Fu; 電子研究所
1996Low-Temperature (≦700℃) Fabrication of Interpolysilicon Oxide and Its Impact on Tunnel Oxide陳鴻祺; Chen, Hong-Qi; 雷添福; Lei, Tian-Fu; 電子研究所
2001MOS元件之閘極層介電材料之技術開發與清潔溶液對複晶矽薄膜經化學機械研磨之研發雷添福; LEI TAN-FU; 國立交通大學電子工程研究所
1995N2O氣體於深次微米金氧半場效電晶體及複晶矽氧化層之應用賴朝松; Lai, Chao-Song; 雷添福; 李崇仁; Lei, Tian Fu; Li, Chong-Ren; 電子研究所
2005NROM資料保存能力之研究賴旭暉; Hsu-Hui Lai; 雷添福; Tan-Fu Lei; 電機學院電子與光電學程
1990P 通道底閘複晶矽薄膜電晶體之製程效應陳東波; CHEN,DONG-PO; 雷添福; 謝太炯; LEI,TIAN-FU; XIE,TAI-JIONG; 電子物理系所
1991The study of titanium-polycided shallow junctions formed by outdiffusion of BF□﹢/As﹢ from polycrystalline/amorphous silicon黃正同; Huang, Zheng-Tong; 雷添福; 李崇仁; Lei, Tian-Fu; Li, Chong-Ren; 電子研究所
2007Study on the Improvement of ONO-stacked Flash Memory by Wet Oxidation of Si3N4 Layer張子□; Tzu-Heng Chang; 雷添福; Tan-Fu Lei; 電子研究所
2000Ti/NiSi/Si及TiN/NiSi/Si堆疊結構陳朝欽; Chen Chao-Chin; 雷添福; Lei Tan-Fu; 電子研究所
16-六月-2004一種利用非晶矽及氧化層堆疊形成奈米級超淺接面之製程雷添福; 張子云; 溫凰君
2015主動層及透明電極應用於可撓曲電晶體之元件製作及特性分析余建賢; Yu, Chien-Hsien; 雷添福; 簡昭欣; Lei, Tan-Fu; Chien, Chao-Hsin; 電子工程學系 電子研究所
1991二氧化鈦薄膜之研究嚴昌生; YAN, CHANG-SHENG; 雷添福; 李崇仁; LEI, TIAN-FU; LI, CHONG-REN; 電子研究所
2001二矽烷複晶矽薄膜及四氟化碳電漿預處理技術在製備薄氧化層之研究李介文; Jam Wem Lee; 李崇仁; 雷添福; Chung_Len Lee; Tan Fu Lei; 電子研究所
1995以Si2H6低壓氣相沉積之複晶矽研製低溫 (<=600℃)薄膜電晶體張正佶; Chang, Cheng-Jyi; 雷添福; Lei Tan-Fu; 電子研究所
1996以UHV/CVD低溫成長複晶薄膜及其金屬矽化物於次微米元件之應用雷添福; LEI TAN-FU; 國立交通大學電子工程研究所
1993以低壓化學氣相沉積法ＴＥＯＳ製成之薄閘極氧化層之研究林震賓; Chen-Bin Lin; 雷添福; Tan-Fu Lei; 電子研究所
1987以矽晶片直接黏合技術製作SOI 基片鄭道隆; ZHEN, DAO-LONG; 陳茂傑; 雷添福; 蘇翔; CHEN, MAO-JIAN; LEI, TIAN-FU; SU, XIANG; 電子研究所
1994以超高真空化學氣相沉積系統成長矽硼層在超大型積體電路之應用陳東波; Tung-Po Chen; 雷添福; Tan-Fu Lei; 電子研究所
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