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公開日期標題作者
1988Poly(triallylphenylsilane)+Bisazide與Hexamethoxymethylmelamine+Poly (p-hydroxystyrene) 二種負型阻劑系統性質研究王清帆; WANG, GING-FAN; 龍文安; LONG, WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1986Polyformyloxystyrene光阻微影成像性質之研究洪維民; HONG, WEI-MIN; 龍文安; LONG, WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1991以CF□/CHF□/O□或CF□/NF□/O□對二氧化矽與經離子佈植的多晶矽之乾式蝕刻劉岳良; LIU, YUE-LIANG; 龍文安; LONG, WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1988以PPIPK 及PMIPK 做為正型、負型阻劑及受離子束撞擊微影成像性質研究彭念祖; PENG, NIAN-ZU; 龍文安; LONG, WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1991以三氯氟甲烷及其混合氣體對矽與多晶矽的電漿蝕刻王芳崇; WANG, FANG-CHONG; 龍文安; LONG, WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1988光酸催化應用於微影成像之研究陳榮雄; CHEN, RONG-XIONG; 龍文安; LONG, WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1984固態超強酸的製備及其表面性質與催化活性相關性之研究李顯宗; LIN, XIAN-ZONG; 龍文安; LONG, WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1988微影成像影像倒置製程之研究林煌崑; LIN, HUANG-KKUN; 龍文安; LONG, WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1988有機矽聚合物做為微影成像對比加強材料之研究何銘燁; HE, MING-YE; 龍文安; LONG, WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1986有機矽聚合物正型光阻劑微影成像性質之研究王宗雄; WANG, ZONG-XIONG; 龍文安; LONG, WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1987氧化態與硫化態鈷鉬系加氫脫硫觸媒性質之研究游清泉; YOU, GING-GUAN; 龍文安; LONG, WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1987氧電漿及深紫外光攜附式光罩之研究黃俊雄; HUANG, JUN-XIONG; 龍文安; LONG, WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1991矽氧化物之氧電漿改質許保陽; XU, BAO-YANG; 龍文安; LONG, WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1991運用氫電漿前處理對離子植入負型阻劑之氧電漿清除的探討林璧君; LIN, BI-JUN; 龍文安; LONG, WEN-AN; 應用化學系碩博士班