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國立陽明交通大學機構典藏
瀏覽 的方式: 作者 Pan, TM
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顯示 1 到 16 筆資料,總共 16 筆
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標題
作者
1-五月-2001
Characterization of ultrathin oxynitride (18-21 angstrom) gate dielectrics by NH3 nitridation and N2O RTA treatment
Pan, TM
;
Lei, TF
;
Wen, HC
;
Chao, TS
;
電子工程學系及電子研究所
;
奈米中心
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
;
Nano Facility Center
1-十一月-2001
Comparison of novel cleaning solutions, with various chelating agents for post-CMP cleaning on poly-Si film
Pan, TM
;
Lei, TF
;
Ko, FH
;
Chao, TS
;
Chiu, TH
;
Lee, YH
;
Lu, CP
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
15-三月-2001
Comparison of ultrathin CoTiO3 and NiTiO3 high-k gate dielectrics
Pan, TM
;
Lei, TF
;
Chao, TS
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
2005
Effects of metallic contaminants on the electrical characteristics of ultrathin gate oxides
Pan, TM
;
Ko, FH
;
Chao, TS
;
Chen, CC
;
Chang-Liao, KS
;
材料科學與工程學系奈米科技碩博班
;
電子物理學系
;
Graduate Program of Nanotechnology , Department of Materials Science and Engineering
;
Department of Electrophysics
1-九月-2001
Electrical characteristics of thin cerium oxide film on silicon substrate by reactive DC sputtering
Pan, TM
;
Chien, CH
;
Lei, TF
;
Chao, TS
;
Huang, TY
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-七月-2001
High quality interpoly dielectrics deposited on the nitrided-polysilicon for nonvolatile memory devices
Yang, WL
;
Chao, TS
;
Cheng, CM
;
Pan, TM
;
Lei, TF
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-二月-2001
High quality interpoly-oxynitride grown by NH3 nitridation and N2O RTA treatment
Pan, TM
;
Lei, TF
;
Yang, WL
;
Cheng, CM
;
Chao, TS
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-九月-2000
High quality ultrathin CoTiO3 high-k gate dielectrics
Pan, TM
;
Lei, TF
;
Chao, TS
;
Chang, KL
;
Hsieh, KC
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
5-三月-2001
High-k cobalt-titanium oxide dielectrics formed by oxidation of sputtered Co/Ti or Ti/Co films
Pan, TM
;
Lei, TF
;
Chao, TS
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-七月-2000
Novel cleaning solutions for polysilicon film post chemical mechanical polishing
Pan, TM
;
Lei, TF
;
Chen, CC
;
Chao, TS
;
Liaw, MC
;
Yang, WL
;
Tsai, MS
;
Lu, CP
;
Chang, WH
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-八月-2004
Novel one-step aqueous solutions to replace pregate oxide cleans
Pan, TM
;
Lei, TF
;
Ko, FH
;
Chao, TS
;
Chin, TH
;
Lu, CP
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-六月-2001
One-step cleaning solution to replace the conventional RCA two-step cleaning recipe for pregate oxide cleaning
Pan, TM
;
Lei, TF
;
Chao, TS
;
Liaw, MC
;
Ko, FH
;
Lu, CP
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-九月-2003
A one-step single-cleaning solution for CMOS processes
Chao, TS
;
Yeh, CH
;
Pan, TM
;
Lei, TF
;
Li, YH
;
電子物理學系
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electrophysics
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-十月-2000
Optimum conditions for novel one-step cleaning method for pre-gate oxide cleaning using robust design methodology
Pan, TM
;
Lei, TF
;
Chao, TS
;
Liaw, MC
;
Lu, CP
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-六月-2002
Performance evaluation of cleaning solutions enhanced with tetraalkylammonium hydroxide substituents for post-CMP cleaning on poly-Si film
Pan, TM
;
Lei, TF
;
Ko, FH
;
Chao, TS
;
Liaw, MC
;
Lee, YH
;
Lu, CP
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-八月-2000
Robust ultrathin oxynitride dielectrics by NH3 nitridation and N2O RTA treatment
Pan, TM
;
Lei, TF
;
Chao, TS
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics