標題: | 矽鍺應力層及非應力層的探討及高速電晶體之應用 Investigation of Strained and Unstrained SiGe Layer and Its Application to High Speed MOSFET |
作者: | 荊鳳德 CHIN ALBERT 交通大學電子工程系 |
公開日期: | 2000 |
官方說明文件#: | NSC89-2215-E009-044 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/100716 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=720340&docId=135308 |
顯示於類別: | 研究計畫 |