新式結構與高介電常數閘極介電層在複晶矽薄膜電晶體之應用(II)

標題:	新式結構與高介電常數閘極介電層在複晶矽薄膜電晶體之應用(II) The Study of New Structure and High-K Gate Dielectric for Poly-Si TFTs Application(II)
作者:	雷添福 LEI TAN-FU 國立交通大學電子工程學系及電子研究所
公開日期:	2009
官方說明文件#:	NSC98-2221-E009-004
URI:	http://hdl.handle.net/11536/101429 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=1902016&docId=315104
顯示於類別：	研究計畫