標題: 新式結構與高介電常數閘極介電層在複晶矽薄膜電晶體之應用(II)
The Study of New Structure and High-K Gate Dielectric for Poly-Si TFTs Application(II)
作者: 雷添福
LEI TAN-FU
國立交通大學電子工程學系及電子研究所
公開日期: 2009
官方說明文件#: NSC98-2221-E009-004
URI: http://hdl.handle.net/11536/101429
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=1902016&docId=315104
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