標題: 12吋矽晶圓半導體CVD製程設備及BST介電薄膜成長研究---子計畫一:12吋矽晶圓CVD製程設備的加熱及成長BST薄膜之進氣系統設計與反應爐系統整合(II)
Design of Heating Assembly and Gas Feeding Unit for BST Thin Film Growth and Integration of CVD Reactor System for a 12-inch Single Silicon Wafer (II)
作者: 林清發
LIN TSING-FA
國立交通大學機械工程研究所
公開日期: 2000
官方說明文件#: NSC89-2212-E009-079
URI: http://hdl.handle.net/11536/102880
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=549681&docId=101493
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