12吋矽晶圓半導體VCD製程設備及BST介電薄膜成長研究---總計畫(I)

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	林清發	en_US
dc.contributor.author	LIN TSING-FA	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:52:03Z	-
dc.date.available	2014-12-13T10:52:03Z	-
dc.date.issued	2000	en_US
dc.identifier.govdoc	NSC89-2212-E009-037	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/103100	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=501199&docId=90359	en_US
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	CVD反應爐	zh_TW
dc.subject	薄膜成長	zh_TW
dc.subject	熱流設計	zh_TW
dc.subject	矽晶圓	zh_TW
dc.subject	CVD reactor	en_US
dc.subject	Thin film growth	en_US
dc.subject	Thermel fluid design	en_US
dc.subject	Silicon wafer	en_US
dc.title	12吋矽晶圓半導體VCD製程設備及BST介電薄膜成長研究---總計畫(I)	zh_TW
dc.title	Research and Development of CVD Process Equipment for a 12-Inch Single Silicon Wafer and Growth of BST Dielectric Thin Film (I)	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	交通大學機械工程系	zh_TW
顯示於類別：	研究計畫

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