標題: 氮化矽薄膜應用於銅導電橋隨機存取記憶體之特性研究
A Study on Copper Conductive-Bridging Random Access Memory Made by SiNx Thin Film
作者: 藍順醴
Lan, Shun-Li
曾俊元
Tseng, Tseung-Yuen
電子工程學系 電子研究所
關鍵字: 氮化矽;銅導電橋隨機存取記憶體;電阻式隨機存取記憶體;SiNx;Copper Conductive-Bridging Random Access Memory;Resistive Random Access Memory
公開日期: 2015
URI: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#GT070250145
http://hdl.handle.net/11536/126616
顯示於類別:畢業論文