標題: 高頻功率氮化銦鋁/氮化鎵高電子遷移率電晶體技術開發與研究
Development of InAlN/GaN Hemt for High Power and High Frequency Applications
作者: 張翼
CHANG EDWARD YI
國立交通大學材料科學與工程學系(所)
公開日期: 2015
官方說明文件#: MOST104-2221-E009-055-MY2
URI: http://hdl.handle.net/11536/129890
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=11574448&docId=469498
顯示於類別:研究計畫