背通道蝕刻型雙層氧化銦鎢/氧化銦鎢鋅 薄膜電晶體技術之研究

標題:	背通道蝕刻型雙層氧化銦鎢/氧化銦鎢鋅薄膜電晶體技術之研究 Study on Back-Channel Etched Double Layer In-W-O/In-W-Zn-O Thin Film Transistors Technology
作者:	陳玟慈劉柏村楊界雄 Chen, Wen-Tzu Liu, Po-Tsun Yang, Kei-Hsiung 光電系統研究所
關鍵字:	背通道蝕刻;氧化銦鎢;氧化銦鎢鋅;薄膜電晶體;雙層主動層;Back-Channel Etched;In-W-O;In-W-Zn-O;Thin Film Transistors;Double Layer
公開日期:	2017
URI:	http://etd.lib.nctu.edu.tw/cdrfb3/record/nctu/#GT070458018 http://hdl.handle.net/11536/141982
顯示於類別：	畢業論文