標題: 背通道蝕刻型雙層氧化銦鎢/氧化銦鎢鋅 薄膜電晶體技術之研究
Study on Back-Channel Etched Double Layer In-W-O/In-W-Zn-O Thin Film Transistors Technology
作者: 陳玟慈
劉柏村
楊界雄
Chen, Wen-Tzu
Liu, Po-Tsun
Yang, Kei-Hsiung
光電系統研究所
關鍵字: 背通道蝕刻;氧化銦鎢;氧化銦鎢鋅;薄膜電晶體;雙層主動層;Back-Channel Etched;In-W-O;In-W-Zn-O;Thin Film Transistors;Double Layer
公開日期: 2017
URI: http://etd.lib.nctu.edu.tw/cdrfb3/record/nctu/#GT070458018
http://hdl.handle.net/11536/141982
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