標題: Novel low-stress SiO2-F-x(x) film deposited by room-temperature liquid-phase deposition method
作者: Yeh, CF
Lin, SS
電子工程學系及電子研究所
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
關鍵字: low-stress;liquid phase deposition;SiO2-F-x(x)
公開日期: 1995
URI: http://hdl.handle.net/11536/19970
http://dx.doi.org/10.1117/12.221287
ISBN: 0-8194-2005-0
DOI: 10.1117/12.221287
期刊: MICROMACHINING AND MICROFABRICATION PROCESS TECHNOLOGY
Volume: 2639
起始頁: 294
結束頁: 303
顯示於類別:會議論文


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