THE EFFECTS OF THERMAL NITRIDATION CONDITIONS ON THE RELIABILITY OF THIN NITRIDED OXIDE-FILMS

標題:	THE EFFECTS OF THERMAL NITRIDATION CONDITIONS ON THE RELIABILITY OF THIN NITRIDED OXIDE-FILMS
作者:	TSAI, HH WU, LC WU, CY HU, CM 工學院 College of Engineering
公開日期:	1-四月-1987
URI:	http://hdl.handle.net/11536/4649
ISSN:	0741-3106
期刊:	IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS
Volume:	8
Issue:	4
起始頁:	143
結束頁:	145
顯示於類別：	期刊論文

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