完整後設資料紀錄
DC 欄位 | 值 | 語言 |
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dc.contributor.author | 曾成立 | en_US |
dc.contributor.author | Zeng, Cheng-Li | en_US |
dc.contributor.author | 吳慶源 | en_US |
dc.contributor.author | Wu, Qing-Yuan | en_US |
dc.date.accessioned | 2014-12-12T02:01:14Z | - |
dc.date.available | 2014-12-12T02:01:14Z | - |
dc.date.issued | 1976 | en_US |
dc.identifier.uri | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT654430001 | en_US |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/51056 | - |
dc.description.abstract | 本文提供一種新式垂直V型雙擴散金氧半場效電晶體的設計及製造方法。垂直V 型雙擴散金氧半場效電晶體具有下列基本的優點:1很高的輸入阻抗;2高的崩潰電 壓 ;3高電流的工作能力;4高的頻率響應;5低的輸出電阻;6固定的飽和跨導;7 較小的佔有面積;8沒有二次崩潰現象。在本文中,除了討論V型雙擴散金氧半場效 電晶體的設計原理及製造方法外,尚提出大略元件設理論以解釋實驗所得的元件數 據。根據垂直 V型雙擴散金氧半場效電晶體的優良特性,此種元件將可大量取代現 有功率雙極性電晶體的地位。 | zh_TW |
dc.language.iso | zh_TW | en_US |
dc.subject | 電子工程 | zh_TW |
dc.subject | ELECTRONIC-ENGINEERING | en_US |
dc.title | 新式V型雙擴散金氧半功率電晶體之模擬及製造技術 | zh_TW |
dc.type | Thesis | en_US |
dc.contributor.department | 電子研究所 | zh_TW |
顯示於類別: | 畢業論文 |