完整後設資料紀錄
DC 欄位 | 值 | 語言 |
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dc.contributor.author | 高耿輝 | en_US |
dc.contributor.author | Gao, Geng-Hui | en_US |
dc.contributor.author | 吳慶源 | en_US |
dc.contributor.author | Wu, Qing-Yuan | en_US |
dc.date.accessioned | 2014-12-12T02:01:29Z | - |
dc.date.available | 2014-12-12T02:01:29Z | - |
dc.date.issued | 1979 | en_US |
dc.identifier.uri | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT684430005 | en_US |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/51150 | - |
dc.description.abstract | 本文利用電子束功率的控制,鈦酸鋇陶瓷體的燒結溫度與薄膜退火溫度三者間的適度 配合,已成功地將具有鐵電性的鈦酸鋇薄膜鍍於矽晶片上。經過一連串的測試實驗, 發現金屬一半導性鈦酸鋇一金屬及金屬一半導性鈦酸鋇一矽系統,能利用二個脈衝使 其產生互相交換的記憶狀態;此性質對於製作非揮發性記憶器極具潛力。此外,本文 利用鈦酸鋇本身所具有的壓電性,可將金屬一半導性鈦酸鋇一矽系統製成壓電轉換二 極體。若以非導性鈦酸鋇薄膜取代金絕半場效電晶體的閘極絕緣層,更可形成時下國 際科技努力發展的金一鐵電一半非揮發性記憶場效晶體。以上三者都陸續地由實驗證 明成功。 | zh_TW |
dc.language.iso | zh_TW | en_US |
dc.subject | 鈦酸鋇 | zh_TW |
dc.subject | 鍍於矽上 | zh_TW |
dc.subject | 元件之應用 | zh_TW |
dc.subject | 電子工程 | zh_TW |
dc.subject | ELECTRONIC-ENGINEERING | en_US |
dc.title | 鈦酸鋇鍍於矽上之備製及其元件之應用 | zh_TW |
dc.type | Thesis | en_US |
dc.contributor.department | 電子研究所 | zh_TW |
顯示於類別: | 畢業論文 |