矽質透穿崩潰型光二極體之設計及製作

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	謝清麟	en_US
dc.contributor.author	Xie, Qing-Lin	en_US
dc.contributor.author	陳茂傑	en_US
dc.contributor.author	Chen, Mao-Jie	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-12T02:02:13Z	-
dc.date.available	2014-12-12T02:02:13Z	-
dc.date.issued	1980	en_US
dc.identifier.uri	http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT694430095	en_US
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/51470	-
dc.description.abstract	本文提供一種簡易製造矽質透穿崩潰光二極體之方法。該法融合離子怖植及傳統擴散技術，應用高阻值晶片，并適當控制P 層之擴散深度。由此製成二極體具有較低之工作電壓，且未減低電流增益值。此光二極體對0.1um 波長之量子效率(Puantum effic ievcy)可達84%,倘若在高反向偏壓時之漏電流能獲致一步改善, 則此光二極體必將提供許多更佳之特性, 此項工作當為再努力之目標。	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	矽質透穿崩潰型光	zh_TW
dc.subject	璃子佈植	zh_TW
dc.subject	傳統擴散技術	zh_TW
dc.subject	高阻值晶片	zh_TW
dc.subject	量子效率	zh_TW
dc.subject	光二極體	zh_TW
dc.subject	電子工程	zh_TW
dc.subject	(QUANTUM-EFFICIENCY)	en_US
dc.subject	ELECTRONIC-ENGINEERING	en_US
dc.title	矽質透穿崩潰型光二極體之設計及製作	zh_TW
dc.type	Thesis	en_US
dc.contributor.department	電子研究所	zh_TW
顯示於類別：	畢業論文