矽質PIN接面型及透穿崩潰型光二柱體之設計及製作

Title:	矽質PIN接面型及透穿崩潰型光二柱體之設計及製作
Authors:	楊國鏘 Yang, Guo-Qiang 劉濬堯陳茂傑 Liu, Jun-Yao Chen, Mao-Jie 電子研究所
Keywords:	矽質PIN;接面型;透穿崩潰型;光二柱體;電子工程;ELECTRONIC-ENGINEERING
Issue Date:	1980
Abstract:	本文提供一種用來生產高性能矽質 PIN 光二極體，而且具有極佳良率的製作程序。利用這種程序製作出來的光二極體（介面直徑為 1 毫米），在 60 伏特的操作電壓下，只有一奈穴（ nA ）的漏電流，而其崩潰電壓則大於 400 伏特，並且具有極高的操作速率。本文也提供製作透穿崩潰型光二極體的方法，由這種方法製作出來的光二極體，在 300 伏特電壓下的電流增益大約為 25。但是，由於漏電流偏高以及微電漿（ Microplasma ）的存在，製作的良率較差而有待改進。 #2811446 #2811446
URI:	http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT694430081 http://hdl.handle.net/11536/51454
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APA	楊., Yang, G., 劉., 陳., Liu, J., & Chen, M. (1980). 矽質PIN接面型及透穿崩潰型光二柱體之設計及製作. http://hdl.handle.net/11536/51454.
Bibtex	@article{楊國鏘 and Yang1980, title={矽質PIN接面型及透穿崩潰型光二柱體之設計及製作}, author={楊國鏘 and Yang, Guo-Qiang and 劉濬堯 and 陳茂傑 and Liu, Jun-Yao and Chen, Mao-Jie}, journal={http://hdl.handle.net/11536/51454}, year={1980}, url={https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/51454}, }