標題: | 液相磊晶砷化鎵薄膜及其特性 |
作者: | 蔣念祖 Jiang, Nian-Zu 潘犀靈 雷添福 Pan, Xi-Ling Lei, Tian-Fu 光電工程學系 |
關鍵字: | 液相磊晶;砷化鎵薄膜;載子濃度;霍爾效應;蕭特基二極體;電容-偏壓;電流-偏壓;X 光繞射光譜;光電學;光學;雷射學;光電工程;ELECTRO-OPTICS-ENGINEERING;OPTICS;LASER;OPTI-ELECTRONIC-ENGINEERING |
公開日期: | 1982 |
摘要: | 本文主要討論液相磊晶系統及技術,並以此技術將砷化鎵薄膜磊長在砷化鎵晶片的表 面。我們仔細研究了影響實驗結果的因素,對此加以探討分析並提出加以改進的建議 ,以確定所建立的液相磊晶系統實行最適當和最有效的操作程序。 在磊晶方面,為了控制磊晶層的載子濃度,我們加了一些已知特性的雜質,並做了一 連串的測量實驗,例如:電子顯微鏡及光學顥微鏡的表面測量、霍爾效應測量和蕭特 基二極體的電容-偏壓、電流-偏壓等特性測量,目的在於使所磊長出的薄膜的特性 能完全控制並重覆再生,更者,薄膜的晶格方向,我們利用了X光繞射光譜來分析。 |
URI: | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT714123006 http://hdl.handle.net/11536/51665 |
顯示於類別: | 畢業論文 |