在縱向磁場下氬離子雷射的正電柱

Abstract

本文的主要目的有二： （一）研究連續波輸出的氬離子雷射的電漿參數（電子密度、電子溫度和縱向電場） 與外加縱向磁場的關係，本文以J.R.Forrest 和R.N.Franklin在一九六八年提出的在 磁場下的正電柱的理論為基礎，惟衍出電漿參數與外加縱向磁場的定量關係。計算結 果顯示出當磁場強度增加時，電子度與縱向電場皆減小了而電子密度卻增大了。 （二）探討採用熱陰極和氧化鈹放電管所產生的連續波輸出功率與外加縱向磁場的關 係。實驗結果顯示出在固定的放電電流和氣壓之下，輸出功率在某一磁場強度會出現 最大值，若再變氣壓時，最佳磁場強度以及最大輸出功率皆隨氣壓的增加而減小。