標題: 非晶型矽薄膜作光學存錄之可行性研究
作者: 鄭超仁
ZHENG, CHAO-REN
李明知
LI, MING-ZHI
光電工程學系
關鍵字: 非晶矽薄膜;薄膜;電漿;化學氣相泥積法;退火;雷射退火技術
公開日期: 1985
摘要: 使用電漿輔助之化學氣相沈積系統所製成之非晶型矽薄膜樣品,經由高溫爐加熱後, 顯示其對可見光有極強的吸收。藉著雷射退火技術導致非晶型─晶型狀態之相變,觀 察其穿透率有顯著的變化,而量得相變前後之樣品有極高的穿透對比(約80dB), 可作為光學存錄之用。除了穿透對此外,我們也作了拉曼光譜之測量,以檢驗樣品經 由雷射退火後再結晶的狀態來確定相變的發生。其他可能影響介質對光學儲存的因素 如薄膜厚度、雷射波長、退火功率及退火時間,均加以討論。
URI: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT742123013
http://hdl.handle.net/11536/52310
顯示於類別:畢業論文