標題: 微波電漿法合成鑽石薄膜之研究
作者: 桂武俊
GUI, WU-JUN
郭正次
GU, ZHENG-CI
機械工程學系
關鍵字: 微波電漿法;鑽石;碳;沈積;絕緣体
公開日期: 1988
摘要: 本文採用微波電漿化學汽相沉積法做鑽石合成之研究。原料反應氣體為甲烷與氫氣。 實驗條件如下:沉積溫度500-950℃;CH4 /H2濃度比0﹒5-4%;壓力2 0-40torrs ;流量100-200cc/min 。 研究重心在於(1)利用下列分析儀器如AES ,ESCA,RAMAN ,XRD ,等來鑑定辨識 沉積膜內各種碳結構之鍵結組態且互作比較,以瞭解各儀器之優弊。(2)配合 SEM 所得之形貌,探討結構與形貌之粗略關連。(3)利用鑽石膜之SEM 形貌,簡略探討 鑽石膜之成長演進模式。(4)探討沉積參數對沉積層形貌與結構之影響。 實驗結果顯示: (1)由於鑽石膜為絕緣體,以致做AES ,ESCA分析時,表面有充電現象,使得測得 之束縛能會因表面上之穩態靜電荷而位移,因此不能確認鑽石結構。相較之下 RAMAN 能辨識各種碳結構之鍵結組態,所以是較適切。 (2)由鑽石膜之SEM 形貌得到粗略的成長模式,當甲烷/氫濃度比較高時,形貌將 由(100)鑽石面構成,此時之成長屬於多次成核成長之演進模式。 (3)當溫度過低時,結構為非晶質碳膜,溫度太高時則變為石墨,祇有適當溫度下 才能長成鑽石膜,而甲烷/氫濃度比過時,結構也將由鑽石轉變成石墨。
URI: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT772489037
http://hdl.handle.net/11536/54119
顯示於類別:畢業論文