標題: 光酸催化應用於微影成像之研究
作者: 陳榮雄
CHEN, RONG-XIONG
龍文安
LONG, WEN-AN
應用化學系碩博士班
關鍵字: 光酸;曝光;質子酸;微影成像;催化
公開日期: 1988
摘要: 本研究為利用光酸(Ph□S□AsF□□)曝光後產生質子酸HAsF□,進行酸催化反應。 因催化作用具有化學放大(Chemical amplofication)功能,且光酸本身感度高(2 54nm Deep UV曝光30mj╱cm□即能分解產生酸),可以縮短曝光時間,改進感度 ,所以近幾年來漸被應用在微影成像製程上。 研究內容分為兩倍份: (一)光酸催化聚碳酸酯(Polycarbonate ,PC)去聚合作用做為自我顯像之研究: 利用光酸照光後產生酸,加熱催化PC(Copolycarbonate of 2,5-Dimethyl-2, 5-hexanediol and 1,4-benzenedimethanol)斷鏈成小分子,在抽真空中自行發 揮,不需顯影液顯影,具有自我顯像功能。以熱重分析來探討無光酸及有光酸性形下 ,PC約在190- 200℃斷鏈,有光酸催化下,斷鏈溫度降至80- 100℃。利 用曝光部份產生酸,加熱至90- 100℃,使PC斷鏈成小分子,在抽真空下自行揮 發,可作為正型阻劑。而乾式製程為未來發展必然的趨勢,以光酸催化聚碳酸酯去聚 合具有作為乾顯像材料的潛力。 (二)光酸催化Photo-Fried 重排反應之研究 本文發現光酸具有催化photo-Fries 重排反應之能力,除改進其微影成像時感度差的 缺點外,並提高對比值(contrast),使更具實用價值。 以Photo-Fries 重排反應之能力,除改進其微低對photo-Froes 重排速率的影響,在 25℃曝光劑量為200mj╱cm 情形下,無光酸催他時,只有7.2%作用,而含 10wt%光酸時,有24.3%作用,且加入光酸催化後暗室效應,並以FT-IR 光譜 推測催化photo-Fries 重排反應機理,應為氫離子先與C = O 之氧鍵結而引起發重排 反應。 另外,本文亦探討了formyloxynovolac受光酸催化進行photo-Fries 重排反應的性質 。
URI: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT772500008
http://hdl.handle.net/11536/54145
顯示於類別:畢業論文