標題: | 脈衝雷射蒸鍍高溫超導薄膜 |
作者: | 甘豐源 GAN,FENG-YUAN 溫增明 郭義雄 吳光雄 WEN,ZENG-MING GUO,YI-XIONG WU,GUANG-XIONG 光電工程學系 |
關鍵字: | 脈衝雷射;高溫超導薄膜;鍍膜法;光學蝕刻法;超導橋;磁場 |
公開日期: | 1989 |
摘要: | 本論文是利用脈衝雷射鍍膜法製備無需後熱處理之Y-Ba-Cu-O 之高溫超導薄膜的研究 報告。我們藉著改變基板溫度,氧氣的氣壓,熱處理條件,雷射光能量,雷射光功率 密度來找出製備較高品質之薄膜的條件。所用的脈衝雷射為倍頻之 Nd:YAG 雷射及本 實驗室自製之氙離子雷射。我們對雷射能量,基板溫度,氧氣壓力等參數對薄膜品質 的影響皆做了詳細的討論。另外,我們採用光學蝕刻法將鍍得之薄膜製成10um寬,12 5um 長的超導橋,並觀察其臨界電流密度(JC)隨著不同之溫度,及外加磁場之變化情 形。 |
URI: | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT782123021 http://hdl.handle.net/11536/54348 |
顯示於類別: | 畢業論文 |