標題: 脈衝雷射蒸鍍高溫超導薄膜
作者: 甘豐源
GAN,FENG-YUAN
溫增明
郭義雄
吳光雄
WEN,ZENG-MING
GUO,YI-XIONG
WU,GUANG-XIONG
光電工程學系
關鍵字: 脈衝雷射;高溫超導薄膜;鍍膜法;光學蝕刻法;超導橋;磁場
公開日期: 1989
摘要: 本論文是利用脈衝雷射鍍膜法製備無需後熱處理之Y-Ba-Cu-O 之高溫超導薄膜的研究 報告。我們藉著改變基板溫度,氧氣的氣壓,熱處理條件,雷射光能量,雷射光功率 密度來找出製備較高品質之薄膜的條件。所用的脈衝雷射為倍頻之 Nd:YAG 雷射及本 實驗室自製之氙離子雷射。我們對雷射能量,基板溫度,氧氣壓力等參數對薄膜品質 的影響皆做了詳細的討論。另外,我們採用光學蝕刻法將鍍得之薄膜製成10um寬,12 5um 長的超導橋,並觀察其臨界電流密度(JC)隨著不同之溫度,及外加磁場之變化情 形。
URI: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT782123021
http://hdl.handle.net/11536/54348
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