標題: 有機金屬氣相磊晶系統之研究
Study of organometallic vapor phase epitaxy system
作者: 任興華
REN, XING-HUA
李威儀
LI, WEI-YI
電子物理系所
關鍵字: 有機金屬;氣相磊晶系統
公開日期: 1992
摘要: 有機金屬氣相磊晶法在生長化合物半導體上有獨到的優點,本研究目在設計及建立一 多功能高精確度的有機金屬氣相磊晶系統。此系統採常壓操作,可以同時容納12種反 應先驅物,反應腔是石英製水平反應腔,以高功率的紅外燈加熱,長晶溫度最高可達 800℃ 以上。系統中的每一個流量控制器、氣動閥及Manifold都可以選擇經面板控制 或電腦控制,這使得整個系統在控制上既靈活又方便,而且整個長晶過程的的進行完 全由電腦長晶程式控制,可以精確掌握每一個細節。在長晶程式設計上,最小的時間 單位是秒,如此可以達到快速氣體切換的目的,這對磊晶層的界面品質相當有幫助。 有機金屬氣相磊晶法最大的問題在於所使用的反應物具有毒性,這將對整個製程安全 造成威脅,因此我們的系統對於安全措施做了完整的整合工作,這包含了所有的防漏 、測漏設備以及毒氣偵測器,可以完全避免意外的發生。
URI: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT812429015
http://hdl.handle.net/11536/57275
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